详细介绍
品牌 | Eksma | 价格区间 | 面议 |
---|---|---|---|
组件类别 | 光学元件 | 应用领域 | 医疗卫生,环保,化工,电子,综合 |
Eksma FEMTOLINE宽带激光扩束器
Eksma FEMTOLINE宽带激光扩束器
Femtoline宽带激光分束器,镀膜波长为720-880 nm或750-850 nm。激光损伤阈值:> 50 mJ / cm2,50 fsec脉冲,典型值为800 nm。
产品介绍
Ø在720-880 nm或750-850 nm镀膜
Ø专为S或P偏振而设计
Ø激光损伤阈值:> 50 mJ / cm2,50 fsec脉冲,典型800 nm
分束器将平均偏振激光束分成彼此分开90°的两束。
标准基板厚度为3mm。如果您需要更薄的基板,请从Precision Thin Round Windows中选择。
EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
我们的激光组件工作在从UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光谱范围内,并在太赫兹(1-5 THz)范围内工作,可在科学,工业,医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用,军事和航空航天市场。
EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光,而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备,球面,轴锥和非球面镜片CNC制造设备,BBO,DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备,超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。
该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是,我们还提供了广泛的标准目录产品,可以快速实现现成的交付。
产品型号
波长范围-720-880 nm,设计用于S偏振
型号 | 材料 | 尺寸 | 波长 | 反射 | 透射 | 偏振 | AOI |
042-7708SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 8±1 % | 92±1 % | S-pol | 45° |
042-7720SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 20±5 % | 80±5 % | S-pol | 45° |
042-7730SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 30±5 % | 70±5 % | S-pol | 45° |
042-7740SB | UVFS | Ø25.4x3 mm | 720-880 nm | 40±5 % | 60±5 % | S-pol | 45° |
042-7750SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 50±5 % | 50±5 % | S-pol | 45° |
042-7760SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 60±5 % | 40±5 % | S-pol | 45° |
042-7770SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 70±5 % | 30±5 % | S-pol | 45° |
042-7780SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 80±5 % | 20±5 % | S-pol | 45° |
042-7790SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 90±3 % | 10±3 % | S-pol | 45° |
042-7795SB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 720-880 nm | 95±2 % | 5±2 % | S-pol | 45° |
045-7708SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 8±1 % | 92±1 % | S-pol | 45° |
045-7720SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 20±5 % | 80±5 % | S-pol | 45° |
045-7730SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 30±5 % | 70±5 % | S-pol | 45° |
045-7740SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 40±5 % | 60±5 % | S-pol | 45° |
045-7750SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 50±5 % | 50±5 % | S-pol | 45° |
045-7760SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 60±5 % | 40±5 % | S-pol | 45° |
045-7770SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 70±5 % | 30±5 % | S-pol | 45° |
045-7780SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 80±5 % | 20±5 % | S-pol | 45° |
045-7790SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 90±3 % | 10±3 % | S-pol | 45° |
045-7795SB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 720-880 nm | 95±2 % | 5±2 % | S-pol | 45° |
波长范围-750-850 nm,设计用于P偏振
型号 | 材料 | 尺寸 | 波长 | 反射 | 透射 | 偏振 | AOI |
042-7710PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 10±2 % | 90±2 % | P-pol | 45° |
042-7720PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 20±5 % | 80±5 % | P-pol | 45° |
042-7725PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 25±5 % | 75±5 % | P-pol | 45° |
042-7730PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 30±5 % | 70±5 % | P-pol | 45° |
042-7740PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 40±5 % | 60±5 % | P-pol | 45° |
042-7750PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 50±5 % | 50±5 % | P-pol | 45° |
042-7760PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 60±5 % | 40±5 % | P-pol | 45° |
042-7770PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 70±5 % | 30±5 % | P-pol | 45° |
042-7775PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 75±5 % | 25±5 % | P-pol | 45° |
042-7780PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 80±5 % | 20±5 % | P-pol | 45° |
042-7785PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 85±3 % | 15±3 % | P-pol | 45° |
042-7790PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 90±3 % | 10±3 % | P-pol | 45° |
042-7795PB | UVFS | Ø25.4 x 3 mm | 750-850 nm | 95±2 % | 5±2 % | P-pol | 45° |
045-7710PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 10±2 % | 90±2 % | P-pol | 45° |
045-7720PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 20±5 % | 80±5 % | P-pol | 45° |
045-7725PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 25±5 % | 75±5 % | P-pol | 45° |
045-7730PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 30±5 % | 70±5 % | P-pol | 45° |
045-7740PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 40±5 % | 60±5 % | P-pol | 45° |
045-7750PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 50±5 % | 50±5 % | P-pol | 45° |
045-7760PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 60±5 % | 40±5 % | P-pol | 45° |
045-7770PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 70±5 % | 30±5 % | P-pol | 45° |
045-7775PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 75±5 % | 25±3 % | P-pol | 45° |
045-7780PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 80±5 % | 20±5 % | P-pol | 45° |
045-7785PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 85±3 % | 15±3 % | P-pol | 45° |
045-7790PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 90±3 % | 10±3 % | P-pol | 45° |
045-7795PB | UVFS | Ø50.8 x 6 mm | 750-850 nm | 95±2 % | 5±2 % | P-pol | 45° |
基材
材料 | 紫外级熔融石英 |
S1表面平整度 | 633 nm时为λ/ 10 |
S1表面质量 | 20-10表面光洁度(MIL-PRF-13830B) |
S2表面平整度 | 633 nm时为λ/ 10 |
S2表面质量 | 20-10表面光洁度(MIL-PRF-13830B) |
直径公差 | +0.00mm-0.12mm |
厚度公差 | ±0.25 |
平行性 | 30弧秒 |
倒角 | 在45°典型值为0.3mm |
镀膜
技术 | 电子束多层电介质 |
附着力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。不溶于实验室溶剂 |
通光孔径 | 超过中心直径的85% |
入射角 | 45±3° |
背面防反射镀膜 | R <0.5% |
激光损伤阈值 | > 50 mJ / cm2,50 fsec脉冲,典型800 nm |
EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
我们的激光组件工作在从UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光谱范围内,并在太赫兹(1-5 THz)范围内工作,可在科学,工业,医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用,军事和航空航天市场。
EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光,而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备,球面,轴锥和非球面镜片CNC制造设备,BBO,DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备,超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。
该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是,我们还提供了广泛的标准目录产品,可以快速实现现成的交付
EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
产品咨询
电话
微信扫一扫