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Eksma FEMTOLINE激光反射镜 800 NM

简要描述:Eksma FEMTOLINE激光反射镜 800 NM
镀膜在800±20 nm的Femtoline激光后视镜具有> 100 mJ / cm2的高激光损伤阈值,50 fsec脉冲,800 nm典型值和高反射率(R> 99.7%)

  • 产品品牌:Eksma
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2021-03-17
  • 访  问  量:831

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详细介绍

品牌Eksma价格区间面议
组件类别光学元件应用领域医疗卫生,环保,化工,电子,综合

Eksma FEMTOLINE激光反射镜 800 NM


Eksma FEMTOLINE激光反射镜 800 NM

镀膜在800±20 nm的Femtoline激光后视镜具有> 100 mJ / cm2的高激光损伤阈值,50 fsec脉冲,800 nm典型值和高反射率(R> 99.7%)

产品介绍

Ø在 800±20 nm处镀膜

Ø激光损伤阈值:> 100 mJ / cm2,50 fsec脉冲,典型值为800 nm

Ø由UVFS或BK7制造

Ø提供25.4或50.8mm尺寸

具有高激光损伤阈值的高反射率(R> 99.7%)电介质镀膜被应用在激光后视镜上。建议将UVFS基板用于高功率激光应用。背面可以镀增透膜,可根据要求避免从二表面反射回来。

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。

公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

我们的激光组件工作在从UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光谱范围内,并在太赫兹(1-5 THz)范围内工作,可在科学,工业,医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用,军事和航空航天市场。

EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光,而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备,球面,轴锥和非球面镜片CNC制造设备,BBO,DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备,超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。

公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。

该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是,我们还提供了广泛的标准目录产品,可以快速实现现成的交付。

产品型号

BK7 Rear Mirrors at 800 nm

型号

材料

尺寸

波长

基材

半径

032-0800-i0

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-plano

062-8005

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-50 mm

062-8010

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-100 mm

062-8015

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-150 mm

062-8020

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-200 mm

062-8025

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-250 mm

062-8050

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-500 mm

062-8100

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-1000 mm

062-8200

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-2000 mm

062-8250

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-2500 mm

062-8400

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-4000 mm

062-8500

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-5000 mm

062-9010

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-convex

100 mm

062-9020

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-convex

200 mm

062-9050

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-convex

500 mm

062-9100

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-convex

1000 mm

062-9200

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-convex

2000 mm

062-9400

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-convex

4000 mm

035-0800-i0

BK7

ø50.8 x 8 mm

800±20 nm

Plano-plano

065-8005

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-50 mm

065-8010

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-100 mm

065-8015

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-150 mm

065-8020

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-200 mm

065-8025

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-250 mm

065-8050

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-500 mm

065-8100

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-1000 mm

065-8200

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-2000 mm

065-8250

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-2500 mm

065-8400

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-4000 mm

065-8500

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-5000 mm

065-9010

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

100 mm

065-9020

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

200 mm

065-9050

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

500 mm

065-9100

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

1000 mm

065-9200

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

2000 mm

065-9400

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

4000 mm

UVFS Rear Mirrors at 800 nm

型号

材料

尺寸

波长

基材

半径

042-0800-i0

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-plano

082-8005

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-50 mm

082-8010

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-100 mm

082-8015

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-150 mm

082-8020

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-200 mm

082-8025

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-250 mm

082-8050

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-500 mm

082-8100

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-1000 mm

082-8200

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-2000 mm

082-8250

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-2500 mm

082-8400

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-4000 mm

082-8500

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-5000 mm

082-9010

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-convex

100 mm

082-9020

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-convex

200 mm

082-9050

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-convex

500 mm

082-9100

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-convex

1000 mm

082-9200

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-convex

2000 mm

082-9400

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-convex

4000 mm

045-0800-i0

UVFS

ø50.8 x 8 mm

800±20 nm

Plano-plano

085-8005

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-50 mm

085-8010

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-100 mm

085-8015

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-150 mm

085-8020

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-200 mm

085-8025

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-250 mm

085-8050

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-500 mm

085-8100

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-1000 mm

085-8200

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-2000 mm

085-8250

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-2500 mm

085-8400

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-4000 mm

085-8500

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-5000 mm

085-9010

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

100 mm

085-9020

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

200 mm

085-9050

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

500 mm

085-9100

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

1000 mm

085-9200

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

2000 mm

085-9400

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

4000 mm

 

基材

材料

UV级熔融石英或BK7玻璃

S1表面平整度

633 nm时为λ/ 10

S1表面质量

20-10表面光洁度(MIL-PRF-13830B)

S2表面质量

简单抛光

直径公差

+0.00mm-0.12mm

厚度公差

±0.25

倒角

在45°典型值为0.3mm

 

镀膜

技术

电子束多层电介质

附着力和耐久性

符合MIL-C-675A。不溶于实验室溶剂

通光孔径

超过中心直径的85%

入射角

0-8°(正常)

镀膜

硬电介质高反射率R> 99.7%

激光损伤阈值

> 100 mJ / cm2,50 fsec脉冲,典型800 nm

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。

公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

我们的激光组件工作在从UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光谱范围内,并在太赫兹(1-5 THz)范围内工作,可在科学,工业,医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用,军事和航空航天市场。

EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光,而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备,球面,轴锥和非球面镜片CNC制造设备,BBO,DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备,超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。

公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。

该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是,我们还提供了广泛的标准目录产品,可以快速实现现成的交付。

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。

公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

我们的激光组件工作在从UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光谱范围内,并在太赫兹(1-5 THz)范围内工作,可在科学,工业,医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用,军事和航空航天市场。

EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光,而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备,球面,轴锥和非球面镜片CNC制造设备,BBO,DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备,超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。

公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。

该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是,我们还提供了广泛的标准目录产品,可以快速实现现成的交付。

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。

公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

我们的激光组件工作在从UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光谱范围内,并在太赫兹(1-5 THz)范围内工作,可在科学,工业,医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用,军事和航空航天市场。

EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光,而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备,球面,轴锥和非球面镜片CNC制造设备,BBO,DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备,超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。

公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。

该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是,我们还提供了广泛的标准目录产品,可以快速实现现成的交付。

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