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详细介绍
| 品牌 | Eksma | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 组件类别 | 光学元件 | 应用领域 | 医疗卫生,环保,化工,电子,综合 |
Eksma 飞秒和ND：YAG激光脉冲电动可变衰减器990-0072M
Eksma 激光脉冲电动可变衰减器
具有ø22 mm透明孔径的电动可变衰减器，由薄膜偏振片，半波片和光机械组成，易于设置。波片的电动旋转允许连续改变输出光束的强度比。
产品介绍
Ø将激光束分为两束手动调节的强度比，以68°角分开
Ø大动态范围
Ø透射光束偏移〜1mm
Ø高光学损伤阈值
Eksma 激光脉冲电动可变衰减器
该可变衰减器/分束器由直径为50.8mm的UV FS薄膜布鲁斯特型偏振片组成，该偏振片反射s偏振光，同时透射p偏振光，并安装在分束器安装座840-0056-12和石英零阶（光学接触）中。半波片直径25.4mm（用于飞秒应用）或零级空气间隔半波片（用于高功率应用），其放置在旋转的偏振片支架840-0190-01中，并放置在入射的线性偏振激光束中。
可以通过旋转波片来连续改变那两个分离且不同的偏振光束的强度比，而无需改变其他光束参数。可以在很宽的动态范围内控制出射光束的强度或其强度比。可以选择P偏振以获得较大的透射率，或者当透射光束发生较大衰减时可以反射高纯度s偏振。
840-0056-12运动学安装座允许将薄膜Brewster型偏振片的入射角（AOI）调整为±4.5°，并获得较大的消光对比度。支架位于杆，杆支架和可移动基座820-0090上。
距桌面的光轴高度可以在78-88 mm的范围内调节。可以提供其他高度作为定制，以将标准杆和杆架更改为更高的高度。
EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
我们的激光组件工作在从UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光谱范围内，并在太赫兹（1-5 THz）范围内工作，可在科学，工业，医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用，军事和航空航天市场。
EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光，而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备，球面，轴锥和非球面镜片CNC制造设备，BBO，DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备，超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。
该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是，我们还提供了广泛的标准目录产品，可以快速实现现成的交付。
产品型号
飞秒激光脉冲
型号 | 波长 | 损坏阈值 | 配置 |
990-0072-343M | 343 nm | >10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-343M+CP | 343 nm | >10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-400M | 400 nm | >10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-400M+CP | 400 nm | >10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-515M | 515 nm | >10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-515M+CP | 515 nm | >10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-800M | 800 nm | >10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-800M+CP | 800 nm | >10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-800BM | 780-820 nm | >10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-800BM+CP | 780-820 nm | >10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-1030M | 1030 nm | >10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-1030M+CP | 1030 nm | >10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-1030BM | 1010-1050 nm | >10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-1030BM+CP | 1010-1050 nm | >10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
大功率激光应用
型号 | 波长 | 损坏阈值 | 配置 |
990-0072-266HM | 266 nm | >100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-266HM+CP | 266 nm | >100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-343HM | 343 nm | >100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-343HM+CP | 343 nm | >100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-400HM | 400 nm | >100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-400HM+CP | 400 nm | >100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-515HM | 515 nm | >100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-515HM+CP | 515 nm | >100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-800HM | 800 nm | >100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-800HM+CP | 800 nm | >100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-800HBM | 780-820 nm | >100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-800HBM+CP | 780-820 nm | >100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-1030HM | 1030 nm | >100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-1030HM+CP | 1030 nm | >100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-1030HBM | 1010-1050 nm | >100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-1030HBM+CP | 1010-1050 nm | >100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
旋转分辨率：全步模式 在1/8步进模式下 |
|
较高转速 | 50 deg/s |
适用于Nd：YAG激光应用
孔径 | 22 mm |
损害阈值 | >5 J/cm2 |
偏振对比 | >1:200 |
飞秒应用
孔径 | 22 mm |
损害阈值 大功率激光应用： | > 10 mJ / cm2，在800 nm处有50 fs脉冲，典型值 > 100 mJ / cm2，在800 nm处有50 fs脉冲，典型值 |
时间色散 | 对于100 fs Ti：蓝宝石激光脉冲，t<4 fs |
偏振对比 | >1:200 |
推荐设置
控制器 | 980-1045 |
电源 | PS12-2.5-4 |
上述控制器和电源已包含在衰减器套件中，其代码结尾为“ + CP"。
EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
我们的激光组件工作在从UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光谱范围内，并在太赫兹（1-5 THz）范围内工作，可在科学，工业，医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用，军事和航空航天市场。
EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光，而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备，球面，轴锥和非球面镜片CNC制造设备，BBO，DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备，超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。
该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是，我们还提供了广泛的标准目录产品，可以快速实现现成的交付。
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