详细介绍
品牌 | Eksma | 价格区间 | 面议 |
---|---|---|---|
组件类别 | 光学元件 | 应用领域 | 医疗卫生,环保,化工,电子,综合 |
Eksma FEMTOLINE薄型AR透镜333-353 NM-1
Eksma FEMTOLINE薄型AR透镜333-353 NM-1
薄透镜,具有333-353 nm范围的防反射镀膜。透镜可以提供电子束(+ AR343)或IBS(+ AR343HT)镀膜。
产品介绍
Ø防反射镀膜的AR / AR @ 333-353 nm
Ø非常薄:边缘厚度从0.5到1.9mm不等
Ø中心厚度从1到3mm不等
Ø平凸或平凹类型
Ø也可以不加镀膜或带有不同的增透膜
Femtoline Thin AR在333-353 nm透镜上镀膜,适用于飞秒Ti:Sapphire激光脉冲的应用。 所展示的透镜可确保宽带飞秒Ti:蓝宝石激光脉冲的低群延迟色散。
产品型号
平凸透镜(ø12.7 mm)
型号 | 材料 | 类型 | 直径 | CT | ET | 焦距@ 800NM | 反射 | |||
110-1106ET+AR343 | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 2.5 mm | 1.0 mm | 30 mm | R<0.5% | |||
110-1106ET+AR343HT | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 2.5 mm | 1.0 mm | 30 mm | R<0.2% | |||
110-1108ET+AR343 | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.8 mm | 0.7 mm | 40 mm | R<0.5% | |||
110-1108ET+AR343HT | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.8 mm | 0.7 mm | 40 mm | R<0.2% | |||
110-1109ET+AR343 | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.9 mm | 1.0 mm | 50 mm | R<0.5% | |||
110-1109ET+AR343HT | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.9 mm | 1.0 mm | 50 mm | R<0.2% | |||
110-1111ET+AR343 | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.8 mm | 1.2 mm | 75 mm | R<0.5% | |||
110-1111MT+AR343 | UVFS | pl/cx | 12.5 mm | 1.8 mm | 1.2 mm | 75 mm | R<0.5% | |||
110-1111ET+AR343HT | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.8 mm | 1.2 mm | 75 mm | R<0.2% | |||
110-1115ET+AR343 | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.5 mm | 0.9 mm | 100 mm | R<0.5% | |||
110-1115MT+AR343 | UVFS | pl/cx | 12.5 mm | 1.5 mm | 0.9 mm | 100 mm | R<0.5% | |||
110-1115ET+AR343HT | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.5 mm | 0.9 mm | 100 mm | R<0.2% | |||
110-1117ET+AR343 | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.4 mm | 1.0 mm | 125 mm | R<0.5% | |||
110-1117ET+AR343HT | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.4 mm | 1.0 mm | 125 mm | R<0.2% | |||
110-1119ET+AR343 | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.5 mm | 1.2 mm | 150 mm | R<0.5% | |||
110-1119MT+AR343 | UVFS | pl/cx | 12.5 mm | 1.5 mm | 1.2 mm | 150 mm | R<0.5% | |||
110-1119ET+AR343HT | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.5 mm | 1.2 mm | 150 mm | R<0.2% | |||
110-1121ET+AR343 | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.2 mm | 1.0 mm | 175 mm | R<0.5% | |||
110-1121ET+AR343HT | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.2 mm | 1.0 mm | 175 mm | R<0.2% | |||
110-1123ET+AR343 | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.2 mm | 1.0 mm | 200 mm | R<0.5% | |||
110-1123ET+AR343HT | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.2 mm | 1.0 mm | 200 mm | R<0.2% | |||
110-1126ET+AR343 | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.1 mm | 1.0 mm | 250 mm | R<0.5% | |||
110-1126ET+AR343HT | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.1 mm | 1.0 mm | 250 mm | R<0.2% | |||
110-1129ET+AR343 | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.1 mm | 1.0 mm | 300 mm | R<0.5% | |||
110-1129ET+AR343HT | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.1 mm | 1.0 mm | 300 mm | R<0.2% | |||
110-1133ET+AR343 | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.1 mm | 1.0 mm | 400 mm | R<0.5% | |||
110-1133ET+AR343HT | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.1 mm | 1.0 mm | 400 mm | R<0.2% | |||
110-1135ET+AR343 | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.1 mm | 1.0 mm | 450 mm | R<0.5% | |||
110-1135ET+AR343HT | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.1 mm | 1.0 mm | 450 mm | R<0.2% | |||
110-1137ET+AR343 | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.1 mm | 1.0 mm | 500 mm | R<0.5% | |||
110-1137ET+AR343HT | UVFS | pl/cx | 12.7 mm | 1.1 mm | 1.0 mm | 500 mm | R<0.2% | |||
材料 | UVFS | |||||||||
表面质量 | 40-20表面光洁度 (MIL-PRF-13830B) | |||||||||
通光孔径 | 90% of the diameter | |||||||||
直径公差 | +0.00, -0.12 mm | |||||||||
厚度公差 | ±0.2 mm | |||||||||
表面不规则 | λ/8 | |||||||||
同心度 | 3 arcmin | |||||||||
近轴焦距 | ±2% @ 800 nm |
镀膜
技术 | 电子束多层电介质 |
附着力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。不溶于实验室溶剂 |
通光孔径 | 超过中心直径的85% |
损坏阈值 | 100 mJ / cm2、50 fsec脉冲,典型343 nm |
镀膜表面平整度 | 通光孔径下633 nm处的λ/ 10 |
入射角 | 0度 |
EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
我们的激光组件工作在从UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光谱范围内,并在太赫兹(1-5 THz)范围内工作,可在科学,工业,医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用,军事和航空航天市场。
EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光,而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备,球面,轴锥和非球面镜片CNC制造设备,BBO,DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备,超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。
该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是,我们还提供了广泛的标准目录产品,可以快速实现现成的交付。
EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
我们的激光组件工作在从UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光谱范围内,并在太赫兹(1-5 THz)范围内工作,可在科学,工业,医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用,军事和航空航天市场。
EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光,而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备,球面,轴锥和非球面镜片CNC制造设备,BBO,DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备,超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。
该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是,我们还提供了广泛的标准目录产品,可以快速实现现成的交付。
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