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详细介绍
| 品牌 | Eksma | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 组件类别 | 光学元件 | 应用领域 | 医疗卫生,环保,化工,电子,综合 |
Eksma FEMTOLINE薄型AR透镜333-353 NM-4
Eksma FEMTOLINE薄型AR透镜333-353 NM-4
薄透镜，具有333-353 nm范围的防反射镀膜。透镜可以提供电子束（+ AR343）或IBS（+ AR343HT）镀膜。
产品介绍
Ø防反射镀膜的AR / AR @ 333-353 nm
Ø非常薄：边缘厚度从0.5到1.9mm不等
Ø中心厚度从1到3mm不等
Ø平凸或平凹类型
Ø也可以不加镀膜或带有不同的增透膜
Femtoline Thin AR在333-353 nm透镜上镀膜，适用于飞秒Ti：Sapphire激光脉冲的应用。 所展示的透镜可确保宽带飞秒Ti：蓝宝石激光脉冲的低群延迟色散。
产品型号
平凹透镜（ø12.7 mm）
型号 | 材料 | 类型 | 直径 | CT | ET | 焦距@ 800NM | 反射 |
112-1104ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 3.5 mm | -20 mm | R<0.5% |
112-1104ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 3.5 mm | -20 mm | R<0.2% |
112-1106ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 2.5 mm | -30 mm | R<0.5% |
112-1106ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 2.5 mm | -30 mm | R<0.2% |
112-1108ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 2.1 mm | -40 mm | R<0.5% |
112-1108ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 2.1 mm | -40 mm | R<0.2% |
112-1109ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.9 mm | -50 mm | R<0.5% |
112-1109ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.9 mm | -50 mm | R<0.2% |
112-1110ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.7 mm | -60 mm | R<0.5% |
112-1110ET+AR800HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.7 mm | -60 mm | R<0.2% |
112-1112ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.5 mm | -75 mm | R<0.5% |
112-1112ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.5 mm | -75 mm | R<0.2% |
112-1113ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.5 mm | -80 mm | R<0.5% |
112-1113ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.5 mm | -80 mm | R<0.2% |
112-1115ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.4 mm | -100 mm | R<0.5% |
112-1115ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.4 mm | -100 mm | R<0.2% |
112-1117ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.3 mm | -125 mm | R<0.5% |
112-1117ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.3 mm | -125 mm | R<0.2% |
112-1119ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.2 mm | -150 mm | R<0.5% |
112-1119ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.2 mm | -150 mm | R<0.2% |
平凹透镜（ø25.4 mm）
型号 | 材料 | 类型 | 直径 | CT | ET | 焦距@ 800NM | 反射 |
112-1205ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 5.4 mm | -50 mm | R<0.5% |
112-1205ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 5.4 mm | -50 mm | R<0.2% |
112-1209ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 4.0 mm | -75 mm | R<0.5% |
112-1209ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 4.0 mm | -75 mm | R<0.2% |
112-1211ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 3.3 mm | -100 mm | R<0.5% |
112-1211ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 3.3 mm | -100 mm | R<0.2% |
112-1215ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 3.0 mm | -125 mm | R<0.5% |
112-1215ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 3.0 mm | -125 mm | R<0.2% |
112-1217ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 2.7 mm | -150 mm | R<0.5% |
112-1217ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 2.7 mm | -150 mm | R<0.2% |
112-1219ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 2.4 mm | -200 mm | R<0.5% |
112-1219ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 2.4 mm | -200 mm | R<0.2% |
112-1221ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 2.3 mm | -250 mm | R<0.5% |
112-1221ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 2.3 mm | -250 mm | R<0.2% |
112-1223ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 2.1 mm | -300 mm | R<0.5% |
112-1223ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 2.1 mm | -300 mm | R<0.2% |
112-1233ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 1.9 mm | -500 mm | R<0.5% |
112-1233ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 1.9 mm | -500 mm | R<0.2% |
材料 | UVFS | |||||||||
表面质量 | 40-20表面光洁度 (MIL-PRF-13830B) | |||||||||
通光孔径 | 90% of the diameter | |||||||||
直径公差 | +0.00, -0.12 mm | |||||||||
厚度公差 | ±0.2 mm | |||||||||
表面不规则 | λ/8 | |||||||||
同心度 | 3 arcmin | |||||||||
近轴焦距 | ±2% @ 800 nm | |||||||||
镀膜
技术 | 电子束多层电介质 |
附着力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。不溶于实验室溶剂 |
通光孔径 | 超过中心直径的85％ |
损坏阈值 | 100 mJ / cm2、50 fsec脉冲，典型343 nm |
镀膜表面平整度 | 通光孔径下633 nm处的λ/ 10 |
入射角 | 0度 |
EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
我们的激光组件工作在从UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光谱范围内，并在太赫兹（1-5 THz）范围内工作，可在科学，工业，医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用，军事和航空航天市场。
EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光，而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备，球面，轴锥和非球面镜片CNC制造设备，BBO，DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备，超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。
该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是，我们还提供了广泛的标准目录产品，可以快速实现现成的交付。
EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
我们的激光组件工作在从UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光谱范围内，并在太赫兹（1-5 THz）范围内工作，可在科学，工业，医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用，军事和航空航天市场。
EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光，而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备，球面，轴锥和非球面镜片CNC制造设备，BBO，DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备，超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。
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