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Eksma FEMTOLINE薄型AR透镜380-420 NM-2

简要描述：Eksma FEMTOLINE薄型AR透镜380-420 NM-2
薄透镜，具有380-420 nm范围的防反射镀膜。透镜可以提供电子束（+ AR400）或IBS（+ AR400HT）镀膜。

产品品牌：Eksma
厂商性质：代理商
更新时间：2021-03-17
访问量：710

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LAYERTEC非球面光学元件介绍

详细介绍

品牌	Eksma	价格区间	面议
组件类别	光学元件	应用领域	医疗卫生,环保,化工,电子,综合

Eksma FEMTOLINE薄型AR透镜380-420 NM-2

Eksma FEMTOLINE薄型AR透镜380-420 NM-2

薄透镜，具有380-420 nm范围的防反射镀膜。透镜可以提供电子束（+ AR400）或IBS（+ AR400HT）镀膜。

产品介绍

Ø防反射镀膜的AR / AR @ 380-420 nm

Ø非常薄：边缘厚度从0.5到1.9mm不等

Ø中心厚度从1到3mm不等

Ø平凸或平凹类型

Ø也可以不加镀膜或带有不同的增透膜

Femtoline薄透镜，具有380-420 nm范围的减反射镀膜。Femtoline薄透镜专为飞秒Ti：Sapphire激光脉冲而设计。所展示的透镜可确保宽带飞秒Ti：蓝宝石激光脉冲的低群延迟色散。

产品型号

平凸透镜（ø25.4 mm）

型号	材料	类型	直径	CT	ET	焦距@ 800NM	反射
110-1205ET+AR400	UVFS	pl/cx	25.4 mm	4.9 mm	1.0 mm	50 mm	R<0.5%
110-1205ET+AR400HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	4.9 mm	1.0 mm	50 mm	R<0.2%
110-1209ET+AR400	UVFS	pl/cx	25.4 mm	3.0 mm	0.5 mm	75 mm	R<0.5%
110-1209ET+AR400HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	3.0 mm	0.5 mm	75 mm	R<0.2%
110-1211ET+AR400	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.5 mm	0.7 mm	100 mm	R<0.5%
110-1211ET+AR400HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.5 mm	0.7 mm	100 mm	R<0.2%
110-1216ET+AR400	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	0.6 mm	125 mm	R<0.5%
110-1216ET+AR400HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	0.6 mm	125 mm	R<0.2%
110-1217ET+AR400	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	0.8 mm	150 mm	R<0.5%
110-1217ET+AR400HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	0.8 mm	150 mm	R<0.2%
110-1219ET+AR400	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.1 mm	200 mm	R<0.5%
110-1219ET+AR400HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.1 mm	200 mm	R<0.2%
110-1223ET+AR400	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.4 mm	300 mm	R<0.5%
110-1223ET+AR400HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.4 mm	300 mm	R<0.2%
110-1225ET+AR400	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.5 mm	350 mm	R<0.5%
110-1225ET+AR400HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.5 mm	350 mm	R<0.2%
110-1227ET+AR400	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.6 mm	400 mm	R<0.5%
110-1227ET+AR400HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.6 mm	400 mm	R<0.2%
110-1231ET+AR400	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.6 mm	450 mm	R<0.5%
110-1231ET+AR400HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.6 mm	450 mm	R<0.2%
110-1233ET+AR400	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.6 mm	500 mm	R<0.5%
110-1233ET+AR400HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.6 mm	500 mm	R<0.2%
110-1245ET+AR400	UVFS	pl/cx	25.4 mm	1.5 mm	1.3 mm	1000 mm	R<0.5%
110-1245ET+AR400HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	1.5 mm	1.3 mm	1000 mm	R<0.2%
110-1255ET+AR400	UVFS	pl/cx	25.4 mm	1.4 mm	1.3 mm	1500 mm	R<0.5%
110-1255ET+AR400HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	1.4 mm	1.3 mm	1500 mm	R<0.2%
110-1265ET+AR400	UVFS	pl/cx	25.4 mm	1.4 mm	1.3 mm	2000 mm	R<0.5%
110-1265ET+AR400HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	1.4 mm	1.3 mm	2000 mm	R<0.2%

材料	UVFS
表面质量	40-20 表面光洁度(MIL-PRF-13830B)
通光孔径	90% of the diameter
直径公差	+0.00, -0.12 mm
厚度公差	±0.2 mm
表面不规则	λ/8@ 633 nm
同心度	3 arcmin
近轴焦距	±2% @ 800 nm

镀膜

技术	电子束多层电介质
附着力和耐久性	符合MIL-C-675A。不溶于实验室溶剂
通光孔径	超过中心直径的85％
损坏阈值	100 mJ / cm2，50 fsec脉冲
镀膜表面平整度	通光孔孔径下633 nm处的λ/ 10
入射角	0度

EKSMA OPTICS是激光，激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。我们的激光组件可在科学，工业，医学，美学，军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。波长范围从紫外（193 nm）到可见光（VIS）到红外（20μm）以及太赫兹（THz）范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用，激光介质和非线性频率转换晶体，光机械，带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商，它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务，其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。

公司拥有：❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割，研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜（包括轴锥）的研磨和抛光设备。在我们的镜头生产工厂中，镜头由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的，超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO，DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

我们的激光组件工作在从UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光谱范围内，并在太赫兹（1-5 THz）范围内工作，可在科学，工业，医学和美学领域的不同激光和光子学应用中使用，军事和航空航天市场。

EKSMA光学抛光设备专门从事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶体制成的平面光学器件的加工和终抛光，而大功率激光应用需要高质量的精密抛光面。该公司还拥有的IBS涂层设备，球面，轴锥和非球面镜片CNC制造设备，BBO，DKDP和KTP Pockels电池装配用的洁净室设备，超快电光脉冲拾取系统制造技术部门和质量控制设备。

公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。

该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是，我们还提供了广泛的标准目录产品，可以快速实现现成的交付。

公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。

该公司可根据客户的图纸和规格提供定制的光学和晶体组件。但是，我们还提供了广泛的标准目录产品，可以快速实现现成的交付。

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