详细介绍
品牌 | Eksma | 价格区间 | 面议 |
---|---|---|---|
组件类别 | 光学元件 | 应用领域 | 医疗卫生,环保,化工,电子,综合 |
Eksma 部分反射镀膜
Eksma 部分反射镀膜
部分反射镀膜是耐用的多层介电镀膜,旨在用于有效的光束分离以及激光腔中的输出耦合。
产品描述
部分反射镀膜是耐用的多层介电镀膜,旨在用于有效的光束分离以及激光腔中的输出耦合。它们被设计用于大功率激光应用。
我们提供适用于不同波长和反射值的一系列标准局部反射镀膜。请与我们联系以获取其他波长,AOI或反射值。
请发送带有镀膜和基材代码的定制产品请求,以获取报价。对于基材,请参阅我们的标准未镀膜激光窗口部分。
我们还提供标准的分束器和输出耦合器,可快速交付:
ØNd:YAG LaserLine分束器(1064 nm,532 nm,355 nm,266 nm)
ØFemtoline分束器(1030 nm,800 nm,515 nm,400 nm,343 nm,266 nm)
ØFemtoline宽带分束器(720-880 nm,750-850 nm)
ØNd:YAG LaserLine输出耦合器(1064 nm nm)
ØFemtoline输出耦合器(1030 nm,800 nm)
EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
产品型号
镀膜型号 | 波长 | 反射率 | 推荐 | 损伤 | |
AOI=0 | AOI=45 |
|
| 基材 | 阈值 |
2012-i0 | 2012-i45 | 248 | 25±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2015-i0 | 2015-i45 | 248 | 50±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2017-i0 | 2017-i45 | 248 | 75±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2022-i0 | 2022-i45 | 266 | 25±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2025-i0 | 2025-i45 | 266 | 50±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2027-i0 | 2027-i45 | 266 | 75±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2032-i0 | 2032-i45 | 308 | 25±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2035-i0 | 2035-i45 | 308 | 50±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2037-i0 | 2037-i45 | 308 | 75±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2042-i0 | 2042-i45 | 355 | 25±3 | UVFS | 2 J/cm2 |
2045-i0 | 2045-i45 | 355 | 50±3 | UVFS | 2 J/cm2 |
2047-i0 | 2047-i45 | 355 | 75±3 | UVFS | 2 J/cm2 |
2052-i0 | 2052-i45 | 400 | 25±3 | UVFS | 3 J/cm2 |
2055 | 2055 | 400 | 50±3 | UVFS | 3 J/cm2 |
2057-i0 | 2057-i45 | 400 | 75±3 | UVFS | 3 J/cm2 |
2062-i0 | 2062-i45 | 532 | 25±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2065-i0 | 2065-i45 | 532 | 50±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2067-i0 | 2067-i45 | 532 | 75±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2069-i0 | 2069-i45 | 633 | 25±3 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
2070-i0 | 2070-i45 | 633 | 50±3 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
2071-i0 | 2071-i45 | 633 | 75±3 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
2072-i0 | 2072-i45 | 800 | 25±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2075-i0 | 2075-i45 | 800 | 50±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2077-i0 | 2077-i45 | 800 | 75±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2079-i0 | 2079-i45 | 852 | 25±3 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
2080-i0 | 2080-i45 | 852 | 50±3 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
2081-i0 | 2081-i45 | 852 | 75±3 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
2082-i0 | 2082-i45 | 1064 | 25±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2085-i0 | 2085-i45 | 1064 | 50±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2087-i0 | 2087-i45 | 1064 | 75±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2089-i0 | 2089-i45 | 1550 | 25±3 | UVFS, BK7 | 2 J/cm2 |
2090-i0 | 2090-i45 | 1550 | 50±3 | UVFS, BK7 | 2 J/cm2 |
2091-i0 | 2091-i45 | 1550 | 75±3 | UVFS, BK7 | 2 J/cm2 |
EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。
产品咨询
电话
微信扫一扫